金相试样抛光的目的是为了除去试样磨面上留下的磨痕，得到似镜面的表面、为显示组织作好准备。理想的抛光面应是平滑光亮、无划痕、无浮雕、无塑性变形层和不脱落非金属夹杂物。

金相试样的抛光方法按其作用本质划分，常用的有以下几种：机械抛光、化学抛光、电解抛光、综合抛光（机械化学抛光和机械电解抛光）。

金相试样最终显示前的品质是由抛光品质决定的。而抛光前试样磨面表面磨制及产生变形层的情况又直接影响抛光品质。因此，在进行抛光工作以前，必须对磨面进行检查，如果在磨面上还留下有较深的磨痕，即使这些深磨痕为数极少，在抛光过程中也是难于去除的。在这样的情况下，应重新对试样磨光，使在磨面上只留下单一方向的均匀的细磨痕及较浅的变形层时，才能进行抛光。

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